3月30日，中微公司披露2025年年度报告。

其年报显示，中微公司2025年全年实现营业收入123.85亿元，同比增长36.62%，经营业绩创下历史新高；归属于母公司所有者的净利润约21.11 亿元，较上年增加约4.96亿元，同比增长约30.69%。

中微公司表示，其针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。

2025年，中微公司刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长约35.12%。

截至2025年底，中微公司刻蚀设备反应台全球出货量超过6800台，应用范围覆盖65纳米至3纳米及更先进制程的各类刻蚀场景，在国内主要客户芯片生产线的市占率持续提升。

中微公司自主研发的CCP高能等离子体刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备已实现对95%以上的三百多种刻蚀应用需求的覆盖。

其中，60比1超高深宽比刻蚀设备在存储器生产线上实现稳定可靠的大批量生产，使中微公司成为国内极少数能够全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求的供应商。新开发的晶圆边缘刻蚀设备和金属刻蚀机也顺利进入客户端生产线验证。

中微公司薄膜沉积设备业务也在2025年迎来爆发式增长，LPCVD设备销售约5.06亿元，同比增长约224.23%。